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CVD系統(tǒng)

更新時間:2013-07-04    點(diǎn)擊次數(shù):7064

天津中環(huán)高真空CVD系統(tǒng)電爐是一家集研發(fā)、生產(chǎn)制造、營銷服務(wù)為一體的的實(shí)驗(yàn)室電爐工作系統(tǒng)解決方案的提供者。作為實(shí)驗(yàn)室電加熱設(shè)備的生產(chǎn)廠家,在實(shí)驗(yàn)室電爐行業(yè)國內(nèi)市場一直保持著地位,并成為*品牌。

通過公司技術(shù)人員的開發(fā),zui近研制出多套CVD系統(tǒng),高真空CVD系統(tǒng)在碳納米材料,真空鍍膜領(lǐng)域廣泛使用,PE獲得客戶廣泛好評。

CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點(diǎn):
1 CVD
系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
2 CVD
系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長
3 CVD
系統(tǒng)使用計(jì)算機(jī)控制,可以設(shè)置多種生長參數(shù)
4 CVD
系統(tǒng)可以制備高質(zhì)量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達(dá)數(shù)厘米,研究動力學(xué)過程
5 CVD
系統(tǒng)沉積效率高;薄膜的成分可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數(shù)毫米,可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

 

佛爐

  

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